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SUPREM-III进行集成电路离子注入的工艺模拟

  • 资源大小:164 K
  • 上传时间: 2024-03-05
  • 上传用户:hbsun
  • 资源积分:2 下载积分
  • 标      签: SUPREM-III 进行 离子注入

资 源 简 介

随着集成电路工艺的不断发展,工艺模拟软件功能也在不断的改善,但不足之处也不
断暴露出来,工艺模拟过程中没有考虑仪器本身影响。所以在工艺模拟中有必要建立一个模型,本文以离子注入工艺为例,研究沟道效

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