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氢、氧等离子体处理对氮化硼薄膜场发射特性的影响

  • 资源大小:333 K
  • 上传时间: 2024-02-29
  • 上传用户:kjl
  • 资源积分:2 下载积分
  • 标      签: 处理 场发射

资 源 简 介

用RF磁控溅射的方法在Si(100)基底上沉积了纳米氮化硼薄膜,然后分别用氢、氧等离子体对薄膜表面进行了处理,用红外光谱、原子力显微镜、光电子能谱以及场发射试验对薄膜进行了研究,结果表明氢等离子

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