对于常规VDMOS器件结构, Rdson与BV存在矛盾关系,要想提高BV,都是从减小EPI参杂浓度着手,但是外延层又是正向电流流通的通道,EPI参杂浓度减小了,电阻必然变大,Rdson增大。所以对于普通VDMOS,两者矛盾不可调和。 但是对于COOLMOS,这个矛盾就不那么明显了。通过设置一个深入EPI的的P区,大大提高了BV,同时对Rdson上不产生影响。为什么有了这个深入衬底的P区,就能大大提高耐压呢? 对于常规VDMOS,反向耐压,主要靠的是N型EPI与body区界面的PN结,对于一个PN结,耐压时主要靠的是耗尽区承受,耗尽区内的电场大小、耗尽区扩展的宽度的面积,也就是下图中的浅绿色部分,就是承受电压的大小。常规VDMOS,P body浓度要大于N EPI, PN结耗尽区主要向低参杂一侧扩散,所以此结构下,P body区域一侧,耗尽区扩展很小,基本对承压没有多大贡献,承压主要是P body--N EPI在N型的一侧区域,这个区域的电场强度是逐渐变化的,越是靠近PN结面(a图的A结),电场强度E越大。所以形成的浅绿色面积有呈现梯形。
上传时间: 2013-11-11
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叙述了锁相环的应用及其结构特点, 较详细地介绍了锁相集成电路CD4046的结构特点和应用。
上传时间: 2013-10-27
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本文的目的在于,介绍如何计算具有狭窄气隙的圆形转子电机中的绕组感应。我们仅处理理想化的气隙磁场,不考虑槽、外部周边或倾斜电抗。但我们将考察绕组磁动势(MMF)的空间谐频。 在图1中,给出了12槽定子的轴截面示意图。实际上,所显示的是薄钢片的形状,或用于构成磁路的层片。铁芯由薄片构成,以控制涡流电流损耗。厚度将根据工作频率而变,在60Hz的电机中(大体积电机,工业用)层片的厚度典型为.014”(.355毫米)。它们堆叠在一起,以构成具有恰当长度的磁路。绕组位于该结构的槽内。 在图1中,给出了带有齿结构的梯形槽,在大部分长度方向上具有近乎均匀的截面,靠近气隙处较宽。齿端与相对狭窄的槽凹陷区域结合在一起,通过改善气隙场的均匀性、增加气隙磁导、将绕组保持在槽中,有助于控制很多电机转子中的寄生损耗。请注意,对于具有名为“形式缠绕”线圈的大型电机,它具有直边矩形槽,以及非均匀截面齿。下面的介绍针对两类电机。
上传时间: 2013-10-13
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挠性印制板很容易在大应力的作用下造成开裂或断裂,在设计时常在拐角处采用抗撕裂结构设计以更好地改善FPC的抗撕裂的性能。
上传时间: 2013-11-22
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为了实现对Buck变换器直流输出电压的精确控制,优化变换器的性能,提出了一种基于双滑模面控制的控制策略,建立了数学模型,并推导了变换器滑模面的存在条件。通过仿真实验表明,采用双滑模面控制滑模变结构控制的Buck变换器具有滑模控制快速响应、鲁棒性强等特点。
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结构电流模式与电压模式的比较 中文
上传时间: 2013-11-16
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YJ 电源拓扑结构详述
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开关电源 拓扑结构
上传时间: 2014-12-24
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照明规范,_接地结构和EMC解决方案
上传时间: 2013-11-13
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接地结构和EMC解决方案
上传时间: 2013-11-03
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