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新一代

  • 高性能覆铜板的发展趋势及对环氧树脂性能的新需求

    讨论、研究高性能覆铜板对它所用的环氧树脂的性能要求,应是立足整个产业链的角度去观察、分析。特别应从HDI多层板发展对高性能CCL有哪些主要性能需求上着手研究。HDI多层板有哪些发展特点,它的发展趋势如何——这都是我们所要研究的高性能CCL发展趋势和重点的基本依据。而HDI多层板的技术发展,又是由它的应用市场——终端电子产品的发展所驱动(见图1)。 图1 在HDI多层板产业链中各类产品对下游产品的性能需求关系图 1.HDI多层板发展特点对高性能覆铜板技术进步的影响1.1 HDI多层板的问世,对传统PCB技术及其基板材料技术是一个严峻挑战20世纪90年代初,出现新一代高密度互连(High Density Interconnection,简称为 HDI)印制电路板——积层法多层板(Build—Up Multiplayer printed board,简称为 BUM)的最早开发成果。它的问世是全世界几十年的印制电路板技术发展历程中的重大事件。积层法多层板即HDI多层板,至今仍是发展HDI的PCB的最好、最普遍的产品形式。在HDI多层板之上,将最新PCB尖端技术体现得淋漓尽致。HDI多层板产品结构具有三大突出的特征:“微孔、细线、薄层化”。其中“微孔”是它的结构特点中核心与灵魂。因此,现又将这类HDI多层板称作为“微孔板”。HDI多层板已经历了十几年的发展历程,但它在技术上仍充满着朝气蓬勃的活力,在市场上仍有着前程广阔的空间。

    标签: 性能 发展趋势 覆铜板 环氧树脂

    上传时间: 2013-11-22

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  • 新唐Nano系列笔记(smartmcu)

    新唐科技(原华邦电子逻辑事业群),自2010年成功推出ARM® Cortex™-M0为内核的32位单片机 - NuMicro™ 家族后,持续专注于新一代微控制器系列产品的开发。同时,32位单片机的发展前景备受各方瞩目,在工业控制、消费电子、汽车电子、高速计算与通讯控制等应用领域的推波助澜下,32位单片机的成本和性价比展现令人期待的成长爆发力。2012年新唐再度大展身手,开发出带有 超低功耗,高集成外设的32位单片机Nano系列。

    标签: smartmcu Nano 新唐

    上传时间: 2013-11-16

    上传用户:Zxcvbnm

  • 新唐CAN-BUS系列笔记(smartmcu)

    新唐科技(原华邦电子逻辑事业群),自2010年成功推出ARM® Cortex™-M0为内核的32位单片机 - NuMicro™ 家族后,持续专注于新一代微控制器系列产品的开发。同时,32位单片机的发展前景备受各方瞩目,在工业控制、消费电子、汽车电子、高速计算与通讯控制等应用领域的推波助澜下,32位单片机的成本和性价比展现令人期待的成长爆发力。2012年新唐再度大展身手,开发出多款新系列32位带有 CAN BUS 设备的低功耗NUC130与NUC140系列单片机。

    标签: smartmcu CAN-BUS 新唐

    上传时间: 2013-10-17

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  • 新唐USB系列笔记(smartmcu)

    新唐科技(原华邦电子逻辑事业群),自2010年成功推出ARM® Cortex™-M0为内核的32位单片机 - NuMicro™ 家族后,持续专注于新一代微控制器系列产品的开发。同时,32位MCU的发展前景备受各方瞩目,在工业控制、消费电子、汽车电子、高速计算与通讯控制等应用领域的推波助澜下,32位MCU的成本和性价比展现令人期待的成长爆发力。2012年新唐再度大展身手,开发出多款新系列32位元带有 USB 全速2.0设备的低功耗NUC122系列,NUC123系列。为了使更多用户快速了解新唐32-bit Cortex-M0 USB MCU的竞争优势,本次我们特别选择以NuMicro USB系列为研讨会主题,欢迎您的参加与讨论。

    标签: smartmcu USB 新唐

    上传时间: 2013-11-22

    上传用户:1047385479

  • PowerWise技术推动新世代便携式装置

    新一代的可携式电子产品不但日趋轻巧纤薄,而且内建的数位电路也越来越多,以便可以支援复杂的运算工作。这类能快速处理大量资料的电子产品迅速普及起来,使系统设计工程师在设计上面对新挑战。为了在产品添加更多功能及确保外型更吸引,设计工程师一方面要为处理器提供足够的供电来执行各种新功能,其中包括声频/视讯录播,电玩,网页浏览,电子邮件传送及一般的办公室文档处理,但另一方面又不能为应付更大的耗电量而加大电池。超小型的可携式电子产品近来很受市场欢迎,这个趋势显示电池体积会进一步缩小,令系统很易便耗尽电池的储电。这些储电量如此有限的电池还要为其他新加的元件,例如高解析度彩色显示器及摄影镜头,提供所需的供电。电池技术固然在效能上有一定的提升,但基本上仍不足以解决电源的供求失衡问题。此外,新一代的半导体技术也令这个问题雪上加霜,因为深层次微米制程技术有漏电的问题,进一步增加系统的整体功耗。电源转换技术也达到瓶颈,效能出现大幅提升的机会十分渺茫。(目前市场上各大开关稳压器的电源转换效率已高达90%以上。)面对这样的情况,我们必须重新思考电源管理的问题,以及采用周密完善的方式来开发新系统。头痛医头,脚痛医脚的方法只能暂时解决个别的电源转换效率问题,对问题的彻底解决没有帮助。因此,我们必须全面审视整个系统的供电需要,并确保系统内的不同元件能在运作上互通,才可进一步提升能源效益以满足消费者的要求。

    标签: PowerWise 便携式 装置

    上传时间: 2013-12-19

    上传用户:zhanditian

  • Xilinx UltraScale:为您未来架构而打造的新一代架构

      Xilinx UltraScale™ 架构针对要求最严苛的应用,提供了前所未有的ASIC级的系统级集成和容量。    UltraScale架构是业界首次在All Programmable架构中应用最先进的ASIC架构优化。该架构能从20nm平面FET结构扩展至16nm鳍式FET晶体管技术甚至更高的技术,同 时还能从单芯片扩展到3D IC。借助Xilinx Vivado®设计套件的分析型协同优化,UltraScale架构可以提供海量数据的路由功能,同时还能智能地解决先进工艺节点上的头号系统性能瓶颈。 这种协同设计可以在不降低性能的前提下达到实现超过90%的利用率。   UltraScale架构的突破包括:   • 几乎可以在晶片的任何位置战略性地布置类似于ASIC的系统时钟,从而将时钟歪斜降低达50%   • 系统架构中有大量并行总线,无需再使用会造成时延的流水线,从而可提高系统速度和容量   • 甚至在要求资源利用率达到90%及以上的系统中,也能消除潜在的时序收敛问题和互连瓶颈   • 可凭借3D IC集成能力构建更大型器件,并在工艺技术方面领先当前行业标准整整一代   • 能在更低的系统功耗预算范围内显著提高系统性能,包括多Gb串行收发器、I/O以及存储器带宽   • 显著增强DSP与包处理性能   赛灵思UltraScale架构为超大容量解决方案设计人员开启了一个全新的领域。

    标签: UltraScale Xilinx 架构

    上传时间: 2013-11-17

    上传用户:皇族传媒

  • Xilinx UltraScale:为您未来架构而打造的新一代架构

      Xilinx UltraScale™ 架构针对要求最严苛的应用,提供了前所未有的ASIC级的系统级集成和容量。    UltraScale架构是业界首次在All Programmable架构中应用最先进的ASIC架构优化。该架构能从20nm平面FET结构扩展至16nm鳍式FET晶体管技术甚至更高的技术,同 时还能从单芯片扩展到3D IC。借助Xilinx Vivado®设计套件的分析型协同优化,UltraScale架构可以提供海量数据的路由功能,同时还能智能地解决先进工艺节点上的头号系统性能瓶颈。 这种协同设计可以在不降低性能的前提下达到实现超过90%的利用率。   UltraScale架构的突破包括:   • 几乎可以在晶片的任何位置战略性地布置类似于ASIC的系统时钟,从而将时钟歪斜降低达50%   • 系统架构中有大量并行总线,无需再使用会造成时延的流水线,从而可提高系统速度和容量   • 甚至在要求资源利用率达到90%及以上的系统中,也能消除潜在的时序收敛问题和互连瓶颈   • 可凭借3D IC集成能力构建更大型器件,并在工艺技术方面领先当前行业标准整整一代   • 能在更低的系统功耗预算范围内显著提高系统性能,包括多Gb串行收发器、I/O以及存储器带宽   • 显著增强DSP与包处理性能   赛灵思UltraScale架构为超大容量解决方案设计人员开启了一个全新的领域。

    标签: UltraScale Xilinx 架构

    上传时间: 2013-12-23

    上传用户:小儒尼尼奥

  • Altium Designer新特性介绍

    Altium Designer 旨在帮助设计人员设计新一代智能、可互连的电子产品。为了实现上述目标,它统一了传统设计领域中的设计工作,提高了设计人员工作的抽象水平,为所有电子产品的核心部分,即器件智能化的设计和部署,提供了完整的解决方案。

    标签: Designer Altium 新特性

    上传时间: 2013-10-13

    上传用户:落花无痕

  • 高性能覆铜板的发展趋势及对环氧树脂性能的新需求

    讨论、研究高性能覆铜板对它所用的环氧树脂的性能要求,应是立足整个产业链的角度去观察、分析。特别应从HDI多层板发展对高性能CCL有哪些主要性能需求上着手研究。HDI多层板有哪些发展特点,它的发展趋势如何——这都是我们所要研究的高性能CCL发展趋势和重点的基本依据。而HDI多层板的技术发展,又是由它的应用市场——终端电子产品的发展所驱动(见图1)。 图1 在HDI多层板产业链中各类产品对下游产品的性能需求关系图 1.HDI多层板发展特点对高性能覆铜板技术进步的影响1.1 HDI多层板的问世,对传统PCB技术及其基板材料技术是一个严峻挑战20世纪90年代初,出现新一代高密度互连(High Density Interconnection,简称为 HDI)印制电路板——积层法多层板(Build—Up Multiplayer printed board,简称为 BUM)的最早开发成果。它的问世是全世界几十年的印制电路板技术发展历程中的重大事件。积层法多层板即HDI多层板,至今仍是发展HDI的PCB的最好、最普遍的产品形式。在HDI多层板之上,将最新PCB尖端技术体现得淋漓尽致。HDI多层板产品结构具有三大突出的特征:“微孔、细线、薄层化”。其中“微孔”是它的结构特点中核心与灵魂。因此,现又将这类HDI多层板称作为“微孔板”。HDI多层板已经历了十几年的发展历程,但它在技术上仍充满着朝气蓬勃的活力,在市场上仍有着前程广阔的空间。

    标签: 性能 发展趋势 覆铜板 环氧树脂

    上传时间: 2013-11-19

    上传用户:zczc

  • 将数据结构与C#语言和.NET框架结合是本书的一大特点。.NET平台是微软推出的一个新的开发平台

    将数据结构与C#语言和.NET框架结合是本书的一大特点。.NET平台是微软推出的一个新的开发平台,目的是让“不同的语言共享同一平台”。.NET很可能成为下一代Windows操作系统的一部分。而C#语言作为新一代完全面向对象的语言,是.NET的母言。本书所有的数据结构和算法都是用C#语言进行描述,并在相应章节的末尾介绍了在.NET框架中常用的数据结构和算法。用C#在.NET平台开发的技术人员可以从本书中获得许多有益的知识和技术。

    标签: NET 数据结构 微软 开发平台

    上传时间: 2014-01-03

    上传用户:zhengzg