模具设计与制造 主编 田光辉 林红旗 北京大学出版社 第一章冲压工艺基础 第二章冲裁工艺与冲裁模 第三章弯曲工艺与弯曲模 第四章拉深工艺与拉深模 第五章其他冲压成型工艺与模具设计 第六章基于eta/DYNAFORM的冲裁模有限元仿真 第七章冲压工艺设计 第八章塑料成形工艺及基础 第九章注射成形工艺及注射模 第十章其他塑料成形工艺及模具 第十一章模具制造基础 第十二章模具成形表面的加工 第十三章模具装配工艺
上传时间： 2016-10-26
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半导体生产和过程控制的基础 这是一本系统介绍芯片生产工艺基础的好书，叙事严谨，条理清晰，值得一看
标签： 芯片生产工艺
上传时间： 2021-11-03
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VIP专区-嵌入式/单片机编程源码精选合集系列（148）资源包含以下内容：1. 是一本西安交通大学出版社出的《TurboC/BorlandC＋＋builder用户界面程序设计》。.2. 小区可视对讲键盘检测程序.利用pt6964芯片..3. 嵌入式WEB服务器 thttpd,shttpd等的源码.4. 位置式PID程序的实现.5. 华为的内部资料.6. 详细介绍了80*86的工作机制.7. 专用集成电路设计基础 孙肖子 第2章 集成电路工艺基础及版图设计.8. 工业蓝牙控制器主板.9. proteus 仿真实例.10. MIPS 汇编指令基础 做嵌入式.11. 基于单片机AT89S52的LCD液晶显示程序.12. ISE最常用的FPGA、CPLD开发软件教程.13. 一个使用AT89C2051单片机作为主控芯片的全自动洗衣机.14. i2c协议介绍.15. 本文档主要介绍Q.931协议基本知识.16. Mini51板lcd1602字符显示,汇编程序。.17. 单片机汇编例程学习,大量的汇编例程.18. C和C++在嵌入式编程里面的应用.19. Nucleus系统介绍文档.20. pci9052下的开发软件,希望大家能用的着.21. 单片机项目资料.22. 基于５１单片机的LCD1602显示.23. SPI_Master source code.24. 基于arm—LPC2103的LCD12232的驱动程序.25. 基于arm—LPC2103的串口通讯程序.26. 关于钢铁行业的气体容量法的碳硫分析仪的源码和原理图.27. 步进电机控制程序.28. EP2C8Q208的PROTEL格式的原理图和PCB.29. ISP for STR73X 默认情况下, bank0 是映射到地址0x00. 考虑到,IAP程序需存储在bank1,而用户程序需存储在bank0. 因此须使用CAPS工具,将bank1映射到地址0.30. 我用BASIC开发环境下的LED屏单显示实验程序.31. Quartus II的TCL脚本的教程.32. i2c的调适成学。ARM7 交流使用.33. lab100实验板说明书以及原理图纸.34. PalmOs API.35. 用c语言编写实现FFT算法.36. 学习FPGA嵌入式开发的完美视频教程,QUARTUS2软件学习的好帮手.37. ATmega128实验板 简要介绍： 主要芯片： CPU:ATmega128L SRAM:SR61L256BS-8 CPLD:XILINX XC95144XL SFLAS.38. 很适合IT专业人士的一份个人职业规划指南 一个招聘者的感悟：选择比努力更重要.39. 用proteus和Keil结合做的51单片机的音乐程序。.40. IBM经典小黑T40的原理图.
上传时间： 2013-04-15
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该文档为IC设计基础(流程、工艺、版图、器件)-笔试集锦总结文档，是一份不错的参考资料，感兴趣的可以下载看看，，，，，，，，，，，，，，，，，
标签： ic设计
上传时间： 2022-07-25
上传用户：qdxqdxqdxqdx
该文档为IC设计基础--集成电路基本工艺总结文档，是一份不错的参考资料，感兴趣的可以下载看看，，，，，，，，，，，，，，，，，
标签： IC设计
上传时间： 2022-07-25
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专辑类-电子工艺-质量及可靠性相关专辑-80册-9020M EMC的基础与实践-146页-19.5M.pdf
上传时间： 2013-07-19
上传用户：sssl
近年来，随着集成电路技术和电源管理技术的发展，低压差线性稳压器（LDO）受到了普遍的关注，被广泛应用于便携式电子产品如PDA、MP3播放器、数码相机、无线电话与通信设备、医疗设备和测试仪器等中，但国内研究起步晚，市场大部分被国外产品占有，因此，开展本课题的研究具有特别重要的意义。 首先，简单阐述了课题研究的背景及意义，分析了低压差线性稳压器（LDO）研究的现状和发展趋势，并提出了设计的预期技术指标。 其次，详细分析了LDO线性稳压器的理论基础，包括其结构、各功能模块的作用、系统工作原理、性能指标定义及设计时对性能指标之间相互矛盾的折衷考虑。 再次，设计了基于自偏置电流源的带隙基准电压源，选取PMOS管作为系统的调整元件并计算出了其尺寸，设计了基于CMOS工艺的两级误差运算放大器。利用HSPICE工具仿真了基准电压源和误差运算放大器的相关性能参数。 然后，重点分析了稳压器的稳定性特征，指出系统存在的潜在不稳定性，详细论述了稳定性补偿的必要性，比较了业界使用过的几种稳定性补偿方法的不足之处，提出了一种基于电容反馈VCCS的补偿方法，对系统进行了稳定性的补偿； 最后，将所设计的模块进行联合，设计了一款基于CMOS工艺的LDO线性稳压器电路，利用HSPICE工具验证了其压差电压、静态电流、线性调整率等性能指标，仿真结果验证了理论分析的正确性、设计方法的可行性。
上传时间： 2013-07-08
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填补了制绒工艺数据的空白，为今后设计研发出更有利于大规模生产线上应用的清洗设备奠定了坚实的基础。
标签： 工艺
上传时间： 2013-07-03
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误差分析与处理基础 测量：人们借助于检测仪表通过实验方法对客观事物取得数量信息的过程。真值：在一定时间、空间条件下客观存在的被测量的确定数值。测量值：检测仪表指示或显示被测参量的数值即仪表读数或示值。测量误差：测量值与真值的差。在科学研究及科学实验中，精度是首要的；在工程实际中，稳定性是首要的，精度只要满足工艺指标范围即可。 3.1 误差的概念与分类3.1.1测量误差的概念及表达方式一、绝对误差――测量值与真值之差 X――检测仪表指示或显示被测参量的数值即仪表读数或示值（测量值） X0――在一定时间、空间条件下客观存在的被测量的真实数值（真值），一般情况下，理论真值是未知的，在工程上，通常用高一级标准仪器的测量值来代替真值。二、相对误差（评定测量的精确度）
标签： 误差分析
上传时间： 2013-10-31
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电子工艺,质量及可靠性相关专辑 80册 902MEMC的基础与实践 146页 19.5M.pdf
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上传时间： 2014-05-05
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