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光刻机

光刻机(lithography)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
  • eMMC详细介绍

    一. eMMC的概述eMMC (Embedded MultiMedia Card) 为MMC协会所订立的内嵌式存储器标准规格,主要是针对手机产品为主。eMMC的一个明显优势是在封装中集成了一个控制器, 它提供标准接口并管理闪存, 使得手机厂商就能专注于产品开发的其它部分,并缩短向市场推出产品的时间。这些特点对于希望通过缩小光刻尺寸和降低成本的NAND供应商来说,具有同样的重要性。二. eMMC的优点eMMC目前是最当红的移动设备本地存储解决方案,目的在于简化手机存储器的设计,由于NAND Flash 芯片的不同厂牌包括三星、KingMax、东芝(Toshiba) 或海力士(Hynix) 、美光(Micron) 等,入时,都需要根据每家公司的产品和技术特性来重新设计,过去并没有哪个技术能够通用所有厂牌的NAND Flash 芯片。而每次NAND Flash 制程技术改朝换代,包括70 纳米演进至50 纳米,再演进至40 纳米或30 纳米制程技术,手机客户也都要重新设计, 但半导体产品每1 年制程技术都会推陈出新, 存储器问题也拖累手机新机种推出的速度,因此像eMMC这种把所有存储器和管理NAND Flash 的控制芯片都包在1 颗MCP上的概念,逐渐风行起来。eMMC的设计概念,就是为了简化手机内存储器的使用,将NAND Flash 芯片和控制芯片设计成1 颗MCP芯片,手机客户只需要采购eMMC芯片,放进新手机中,不需处理其它繁复的NAND Flash 兼容性和管理问题,最大优点是缩短新产品的上市周期和研发成本,加速产品的推陈出新速度。闪存Flash 的制程和技术变化很快,特别是TLC 技术和制程下降到20nm阶段后,对Flash 的管理是个巨大挑战,使用eMMC产品,主芯片厂商和客户就无需关注Flash 内部的制成和产品变化,只要通过eMMC的标准接口来管理闪存就可以了。这样可以大大的降低产品开发的难度和加快产品上市时间。eMMC可以很好的解决对MLC 和TLC 的管理, ECC 除错机制(Error Correcting Code) 、区块管理(BlockManagement)、平均抹写储存区块技术 (Wear Leveling) 、区块管理( Command Managemen)t,低功耗管理等。eMMC核心优点在于生产厂商可节省许多管理NAND Flash 芯片的时间,不必关心NAND Flash 芯片的制程技术演变和产品更新换代,也不必考虑到底是采用哪家的NAND Flash 闪存芯片,如此, eMMC可以加速产品上市的时间,保证产品的稳定性和一致性。

    标签: emmc

    上传时间: 2022-06-20

    上传用户:jiabin

  • 基于线阵CCD的便携式非接触直径测量系统设计

    $1.1前言光电自动检测技术在工业自动化生产中有着极其广泛和重要的用途。然而,目前产品零件尺寸的检测大多数是人工测量的接触式和静止测量,所以检测速度低,生产效率低,劳动强度大,远远跟不上目前自动化生产的需要。尤其在全面质量管理过程中,更需要先进的、智能的检测手段。目前,国内外常采用激光扫描光电线径测量4~,但是这种方法受电机的温度及振动的影响,扫描恒速度的限制,会产生高温使其降低寿命。我们研制的基于线阵CCD便携式非接触直径测量仪器正是适应当前社会自动化生产的急需而设计的,该测径仪是一种光、机、电一体化的产品。尤其适用于电缆、电线、玻璃管、轴类零件的外径测量,对保证产品质量,降低原材料消耗,降低生产成本,提高劳动生产率有着重大的经济效益和社会意义。

    标签: ccd

    上传时间: 2022-06-23

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  • DS18B20原理及应用实例(源程序+原理图+Proteus仿真)

    基于Proteus仿真前言:本文详细介绍了DS18B20原理,并在后面举例说明了其在单片机中的应用,所举例子包含Proteus仿真电路图,源程序,程序注释详细清楚。1、DS18B20简介:DS18B20温度传感器是DALLAS公司生产的1-wire式单总线器件,具有线路简单,体积小的特点,用它组成的温度测量系统线路非常简单,只要求一个端口即可实现通信。温度测量范围在一55℃~+125℃之间,分辨率可以从9~12位选择,内部还有温度上、下限报警设置。每个DS18B20芯片都有唯一的序列号,所以可以利用多个DS18B20同时连接在同一条总线上,组成多点测温系统。但最多只能连接8个,如果数量过多,会使供电电源电压过低,从而造成信号传输的不稳定。2、DS18B20结构:如右图所示,DS18B20有三只引脚,VCC、DQ和GND。DQ为数字信号输入/输出端(DQ一般接控制器(单片机)的一个1/0口上,由于单总线为开漏所以需要外接一个4.7K的上拉电阻);GND为电源地;VDD为外接供电电源输入端(在寄生电源接线方式时接地)。DS18B20内部结构主要由四部分组成:64位光刻ROM、温度传感器、非挥发的温度报警触发器TH和TL、配置寄存器。光刻ROM中的64位序列号是出厂前被光刻好的,它可以看作是该DS18B20的地址序列码。64位光刻ROM的排列是:开始8位是产品类型标号,接着的48位是该DS1B20自身的序列号,最后8位是前面56位的CRC校验码(循环冗余校验码)。光刻ROM的作用是使每一个DS18B20都各不相同,这样就可以实现一根总线上挂接多个DS18B20的目的。温度传感器可完成对温度的测量,以12位转化为例,用16位符号扩展的二进制补码读数形式提供。

    标签: ds18b2 proteus

    上传时间: 2022-07-02

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  • 芯片制造 半导体工艺制程实用教程 第5版

    本书是一部介绍半导体集成电路和器件技术的专业书籍。其英文版在半导体领域享有很高的声誉.被列为业界最畅销的书籍之一,第五版的出版就是最好的证明。 本书的范围包括半导体工艺的每个阶段.从原材料制备到封装、测试以及传统和现代工艺。每章包含有习题和复习总结,并辅以丰富的术语表。本书主要特点是简洁明了,避开了复杂的数学理论.非常便于读者理解。本书与时俱进地加入了半导体业界的最新成果.可使读者了解工艺技术发展的最新趋势。本书可作为离等院校电子科学与技术专业和职业技术培训的教材,也可作为半导体专业人员的参考书。本版新增内容• 纳米技术• "绿色”工艺和器件• 300 mm 昆图 工艺• 新的制造技术提升• 下一代光刻技术

    标签: 芯片制造 半导体工艺制程

    上传时间: 2022-07-16

    上传用户:fliang

  • IE 工具书 于支持向量机的手写体相似 开发工具: C 文件大小: 5 KB 上传时间: 2004-10-14 下载次数: 22 提 供 者: 陈进光 详细介绍: Keil C 编程的手写板

    IE 工具书 于支持向量机的手写体相似 开发工具: C 文件大小: 5 KB 上传时间: 2004-10-14 下载次数: 22 提 供 者: 陈进光 详细介绍: Keil C 编程的手写板

    标签: 2004 Keil IE 10

    上传时间: 2013-12-30

    上传用户:钓鳌牧马

  • 硬件知识CD-R光盘大家族 随着刻录机的日益普及

    硬件知识CD-R光盘大家族 随着刻录机的日益普及,市场上CD-R光盘的种类也越来越多,容量、颜色、形状、品牌五花八门,消费者往往有一种无所适从的感觉。下面,我们就从不同的角度向大家全面介绍一下CD-R光盘家族的成员,供大家在选购时作参考。

    标签: CD-R 硬件 光盘

    上传时间: 2014-07-27

    上传用户:tb_6877751

  • 刻录机源码

    刻录机源码,可以刻录CD和DVD,ISO文件

    标签: 刻录机 源码

    上传时间: 2015-09-05

    上传用户:叶山豪

  • 基于模板匹配与支持矢量机的人脸检测 梁路宏 艾海舟 肖习攀 叶航军 徐光佑 张钹 。本文提出了一种将模板匹配与支持矢量机(SVM)相结合的人脸检测算法。算法首先使用双眼—人脸模板对进行粗筛选

    基于模板匹配与支持矢量机的人脸检测 梁路宏 艾海舟 肖习攀 叶航军 徐光佑 张钹 。本文提出了一种将模板匹配与支持矢量机(SVM)相结合的人脸检测算法。算法首先使用双眼—人脸模板对进行粗筛选,然后使用SVM分类器进行分类。在模板匹配限定的子空间内采用“自举”方法收集“非人脸”样本训练SVM,有效地降低了训练的难度。实验结果的对比数据表明,该算法是十分有效的。

    标签: SVM 模板匹配 矢量 人脸检测

    上传时间: 2013-11-27

    上传用户:erkuizhang

  • 决死队夫君可健康法交道口防空洞健康法刻录机地方军科隆队建房款建房款领导家

    决死队夫君可健康法交道口防空洞健康法刻录机地方军科隆队建房款建房款领导家

    标签: 防空 刻录机

    上传时间: 2016-02-16

    上传用户:kytqcool

  • 凌阳7300做的硬盘刻录机原理图与PCB图

    凌阳7300做的硬盘刻录机原理图与PCB图

    标签: 7300 PCB 凌阳 硬盘

    上传时间: 2014-01-05

    上传用户:a3318966